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熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關(guān)重要
熒光光譜儀的分析方法是一個(gè)相對(duì)分析方法，任何制樣過程和步驟必須有非常好的重復(fù)操作可能性，所以用于制作標(biāo)準(zhǔn)曲線的標(biāo)準(zhǔn)樣品和分析樣品必須經(jīng)過同樣的制樣處理過程。X射線熒光實(shí)際上又是一個(gè)表面分析方法，激發(fā)只發(fā)生在試樣的淺表面，必須注意分析面相對(duì)于整個(gè)樣品是否有代表性。此外，熒光光譜儀樣品的平均粒度和粒度分布是否有變化，樣品中是否存在不均勻的多孔狀態(tài)等。樣品制備過程由于經(jīng)過多步驟操作，還必須防止樣品的損失和沾污。
在工業(yè)過程控制分析中，熒光光譜儀的靈敏度、精度及分析速度是至關(guān)重要的。SPECTROiQII在這一領(lǐng)域已建立了相應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)。的SPECTROiQII在此基礎(chǔ)上進(jìn)一步改進(jìn)了技術(shù)，提高了操作簡便性和可靠性。
在許多情況下，熒光光譜儀在測(cè)定主要成分的精度及重要痕量元素的靈敏度可以同價(jià)格昂貴的波長色散型X熒光光譜儀相媲美。以往只能用波長色散型X熒光光譜儀完成的分析任務(wù)，現(xiàn)在通過SPECTRO*的偏振能量色散型儀器即可地完成。
X射線是一種電磁輻射，其波長介于紫外線和Y射線之間。熒光光譜儀的波長沒有一個(gè)嚴(yán)格界限，一般來說是指波長為0.001-50nm的電磁輻射。對(duì)分析化學(xué)家來說，感興趣的波段是0.01-24nm，0.01nm左右是超鈾元素的k系譜線。1923年赫維西（Hevesy.G.Von）提出了應(yīng)用X射線熒光光譜進(jìn)行定量分析，但由于受到當(dāng)時(shí)探測(cè)技術(shù)水平的限制該法并未得到實(shí)際應(yīng)用，直到20世紀(jì)40年代后期，隨著X射線管、分光技術(shù)和半導(dǎo)體探測(cè)器技術(shù)的改進(jìn)，X熒光分析才開始進(jìn)入蓬勃發(fā)展的時(shí)期，成為一種極為重要分析手段。